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一、什么是集(jí)成电路布图设计?
集成电路布图设计,根据《集成电(diàn)路布图设计保护条例(lì)》第二(èr)条,是指(zhǐ)集成电路(lù)中至少有一个是(shì)有源元件的(de)两(liǎng)个(gè)以(yǐ)上(shàng)元件和(hé)部分或(huò)者全部互连(lián)线路的三维配置,或者为制造(zào)集成电路而准备的(de)上述(shù)三维配置。
上(shàng)述的集成(chéng)电路,是指(zhǐ)半导体集成(chéng)电路,即(jí)以半(bàn)导(dǎo)体材料为基片,将至少(shǎo)有一个是有源元件的两个(gè)以(yǐ)上元(yuán)件和部分或全部互连线路集成在基(jī)片(piàn)中或者基(jī)片之上,以执行某种(zhǒng)电子功能(néng)的(de)中(zhōng)间产品或(huò)者最终产品。
二、集成(chéng)电路布图设计专有权的作用
获(huò)得集成电路布图设计专有权后,未经布图设计权利人(rén)许可,他人不(bú)得:
(1)复制受保护(hù)的布图设计的全部或(huò)者其中任何具有独创性的部分(fèn);
(2)为商(shāng)业(yè)目的进口、销售或者以其(qí)他(tā)方式提供受保护(hù)的布图设计、含有(yǒu)该布图设(shè)计的集(jí)成电路或者含(hán)有该集成电(diàn)路的物(wù)品。
有上述行为之一的,被认为侵犯布(bù)图设计专有权。行(háng)为人必须(xū)立即停止侵权行为,并承(chéng)担赔偿责任(rèn)。
三、集成电(diàn)路布图设计登记的条(tiáo)件
1、要求保护的布图设计必须具有独创性(xìng),即该布图是创作者自(zì)己的(de)智力劳动成果,并且(qiě)在其创作时,该布图设计不是(shì)布图设(shè)计创作者和(hé)集成电路制造者中公认的常规设计;2、受保护的由常规设计(jì)组成的布图设计,其组合(hé)作为(wéi)整体同样应当具有独创(chuàng)性。
四、集(jí)成电路布图设计登记(jì)申请所需时间
审查采用(yòng)登记(jì)制,申请经初(chū)步(bù)审(shěn)查合格即获准登记。登记过程较短,一(yī)般申请递交之后2个(gè)月(yuè)左右即(jí)可拿到证书。
五、集成(chéng)电路布图设计登(dēng)记所需(xū)材料(liào)
必须提交(jiāo)的(de)文件(jiàn):
1、集成电路(lù)布图设计登记申请表(biǎo)1份(fèn);
2、图样1份;
3、图样的目录1份;
可能需(xū)要(yào)的文件(jiàn):
1、集(jí)成电路布图设计在申请(qǐng)日前已投入商(shāng)业利用的(de),申请登记时应当提(tí)交4件样品(pǐn)至国家知识(shí)产权局专利局;
2、申请人委托(tuō)代理机构的,还应提交集成电路(lù)布图设计登记代理委托书;
3、包含(hán)集成电路布图设计(jì)图样电子(zǐ)件的(de)光盘;
4、集成电路布图设计的简要说(shuō)明。
申请文件的形式要求:
图样:包括该(gāi)布图(tú)设计的总图(tú)和(hé)分(fèn)层图,以适合A4纸的大小打印在(zài)A4纸上;每页纸打印(yìn)一幅图;当图纸(zhǐ)有多(duō)时,应顺序编号。
图样的目录(lù):应写明每页图纸的图层名称。
样(yàng)品:所提交的4件集(jí)成电路样品应(yīng)当(dāng)置于专用器具中,器具(jù)表面(miàn)应(yīng)当贴上标签,写明申(shēn)请人的姓名和(hé)集(jí)成(chéng)电路布图设计名(míng)称。
简要说明:说明该集成电(diàn)路布图设(shè)计的结构、技术、功能和其他(tā)需要说明的事项。
六、集成电路布图设计登记有(yǒu)效期
布图设(shè)计(jì)专有权的(de)保护期为10年,自布图(tú)设计(jì)登记(jì)申请之日或者(zhě)在世界任(rèn)何(hé)地方首次(cì)投(tóu)入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是(shì)否登记或(huò)者投(tóu)入商业利用,布图设(shè)计自创作完成之(zhī)日起15年后,不再(zài)受(shòu)到保护。
七、集成电路(lù)布图设计登记费用(yòng)
布图设计(jì)登(dēng)记官费1000元,集(jí)成电(diàn)路布(bù)图设计登(dēng)记时(shí),还应缴纳印花(huā)税5元,合(hé)计为1005元(yuán)。
目(mù)前(qián),集成电路布图设计在中(zhōng)国的知(zhī)识产(chǎn)权领域(yù)属(shǔ)于专利范畴,价值(zhí)较(jiào)高,相比发明专利、实(shí)用新(xīn)型,具(jù)有申请(qǐng)周(zhōu)期短的明(míng)显优势(shì),可以帮(bāng)助计划申报高新(xīn)技术企业的集(jí)成电(diàn)路企业在短期内拿到较高的知识(shí)产权评(píng)分(fèn)。